ALD/CVD Systemによる成膜実験サービス

プリカーサ・プロセス評価用のUHV仕様のCVD、ALD装置
基板温度1000°Cまで使用可能な高温仕様で全16ラインのガス種に加えご要望に応じたラインの増設も可能。
新規材料へのご相談も対応いたします。
また、新規装置へのチャレンジも行いますし、さまざまな実験を有償にて承ります。
ロードロック付き超高真空仕様 |
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排気系 | TMP, MBP, RP |
ステージ温度 | 〜500°C |
ガス種 | キャリア&希釈ガス(全16ライン) |
プリカーサ | Si, Al, Hf, Pt, Ni, Co, Ti, 他各種有機金属材料 |
酸化材 | 水・酸素・N2O・高濃度オゾン等 |
還元ガス | H2、NH3 |


