Trustee Experiment 成膜実験受託

ALD/CVD Systemによる成膜実験サービス

プリカーサ・プロセス評価用のUHV仕様のCVD、ALD装置

基板温度1000°Cまで使用可能な高温仕様で全16ラインのガス種に加えご要望に応じたラインの増設も可能。

新規材料へのご相談も対応いたします。

また、新規装置へのチャレンジも行いますし、さまざまな実験を有償にて承ります。

仕様 
ロードロック付き超高真空仕様
排気系 TMP, MBP, RP
ステージ温度 〜500°C
ガス種 キャリア&希釈ガス(全16ライン)
プリカーサ Si, Al, Hf, Pt, Ni, Co, Ti, 他各種有機金属材料
酸化材 水・酸素・N2O・高濃度オゾン等
還元ガス H2、NH3

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