スプリードは真空機器や研究開発機器の設計・製造・販売をしております
We produce the physics and chemistry equipments and thin film deposition systems
スプリードはHtc社の正式なアフターサービス認定工場です

メタルオーガニック（MO）ガスを導入したMOCVDや飽和表面反応を利用した原子層成膜（Atomic Layer Deposition）の実験も可能です。

大型ロボット付き実験用ALD装置です。

 

真空チャンバーでウェハを加熱、CVDガスを導入し表面反応を利用したCVD(ALCVD)を行う装置です。

特徴

• 幅広い温度範囲でのCVDが可能です
• ロードロック機構＋手動搬送機構により手早く成膜できます
• 排気系に特殊トラップ機構(オプション)を設けることで長期間安定した成膜が可能です
• パーソナルコンピュータによる自動成膜が可能です (オプション)

仕様　＊改良のため予告なく仕様変更することがあります

チャンバー材質	アルミ合金SUS304/316
基板加熱	シースヒーターによる加熱(最高温度600℃)PID制御
基板サイズ	2"〜4"(仕様によりチャンバー外形が変わります)
原料供給	原料加熱による気化＋マスフローコントローラーによる流量調整
排気系	TMP＋ロータリーポンプ
基板搬送	手動搬送機構＋上下機構(モーター駆動)
ガスライン加熱	最大16系統の増設が可能