ALD & CVD

Sputter System + ALD System 　
SSALD-01　￥23,000,000〜

ALDとSputterを組み合わせた複合成膜装置です。

 

仕様　＊改良のため予告なく仕様変更することがあります
1"ALD装置 プリカーサライン2
排気系 ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ケミカル仕様）150L/S
基板加熱機構 500°C MAX80L/S
搬送機構 マグネットカップリング式トランスファーロット
スパッタ装置 ３元式スパッタ源（平行平版）
排気系 ターボ分子ポンプ350L/S+ロータリーポンプ150L/S

オプション

オゾン発生装置

▶MOガスの温度や流量は個別に制御されMOガス個別の特性に応じた制御が可能です

▶搬送されたサンプルの成膜制御はコンピュータから行います

OPTION

▶成膜中の温度や流量などのパラメータはコンピュータ内に蓄積され、過去の成膜状態との比較が容易です

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